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CRF plasma 等離子清洗機

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大氣等離子清洗機制取納米粉有許多其他方法所不具備的優(yōu)點

大氣等離子清洗機制取納米粉有許多其他方法所不具備的優(yōu)點:
       氧化鉍是1種很重要的功能粉狀材質(zhì),在無機生成、電子陶瓷、實驗試劑等層面有著普遍的應用。適用于生產(chǎn)制造壓電陶瓷片、壓敏電阻等電子陶瓷元件。除有著一般粒度的氧化鉍粉體外,鑒于納米氧化鉍粉狀粒徑較小,所以也可以應用于對粒度有特殊要求的場合,例如電子材料、超導材料、特殊功能陶瓷材料、陰極管內(nèi)壁涂層等。
       因此,對納米Bi:O3制取方法和應用的探索引起了國內(nèi)外研究人員的普遍興趣。制取納米Bi20的方法大致包括固相反應法、沉淀法、噴霧燃燒法、溶膠凝膠法等。這些方法取得了良好的效果,但仍然存在一些局限性:噴霧燃燒法制取的納米氧化鉍粒徑不均勻,對設(shè)備要求高;化學法生產(chǎn)的納米氧化鉍易于團聚。鑒于生產(chǎn)過程中使用堿液,不可避免地會帶入堿金屬或堿土金屬離子,影響氧化鉍的純度。

大氣等離子清洗機

       大氣等離子體清洗機等離子體有著較大的化學活化。它是1種處于電離狀態(tài)的氣體物質(zhì),是氣相的化學反應。等離子體是由純氣體電離產(chǎn)生的,有助于制取超純粉狀。鑒于大氣等離子體清洗機等離子體溫度梯度高,易于得到高對比度、快速淬火和高純納米粉狀。與液相法相比,氣相法制取的粉狀產(chǎn)品一般純度高,表面清潔,結(jié)晶組織好,環(huán)境污染少。因此,氣相法更有助于制取鉍納米粉。
       用大氣等離子體清洗機等離子體法制取納米粉有許多其他方法所不具備的優(yōu)點。等離子體是熱源,以普通微米級納米氧化鉍粉為原料,通過選擇合適的功率和加料量,成功制取出中粒徑17.5nm、比表面積47.73m/g的正方晶體納米Bizo3粉狀;制取的納米氧化鉍純度高,結(jié)晶組織好。

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